Verslag bezoek aan ASML (04.11.2010)

Op 4 november verzamelden 25 leden van VIK Limburg zich bij chipmachinefabrikant ASML. Vanuit Veldhoven (vlakbij Eindhoven, net over de Nederlandse grens) bouwen 6000 ingenieurs en onderzoekers reeds meer dan 25 jaar aan de ontwikkeling van steeds kleinere en snellere microchips.

Jos Vreeker, zelf ingenieur van opleiding, gaf enthousiast meer uitleg over de recentste ontwikkelingen rond semiconductoren. De 25 deelnemers luisterden vol ontzag naar een verhaal van volgehouden innovatie op nanometerschaal. ASML zorgt vandaag immers voor chipmachines die structuren van 32 nm kunnen maken. Om chipfabrikanten te helpen om aan de Wet van Moore te blijven voldoen, wil het bedrijf de chips zelfs nog kleiner maken in de toekomst. Dankzij immersielithografie en EUV zal het bedrijf daar ook in slagen.

Immersielithografie

Bij immersie wordt water toegevoegd tussen de lens en de wafer. Hiermee is het mogelijk microchips te maken waarbij de kleinste lijnen een resolutie hebben van slechts 38 nm en met speciale technieken zelfs 32 nm.

Voor fabrikanten van microchips moet deze technologie steeds toegepast kunnen worden in systemen voor massaproductie. Hun fabrieken werken 24/7. Het is dus uiterst belangrijk dat deze nieuwe technologie helemaal op punt staat, zodat downtime vermeden wordt.

De ingenieurs die zich met de uitwerking van immersie in lithografie bezig hielden, hadden enkele belangrijke drempels te overwinnen vooraleer op massaproductie te kunnen overschakelen. De idee om water toe te voegen tussen de lens en de wafer was relatief makkelijk te bedenken. De uitwerking en het overwinnen van volgende uitdagingen vergde echter nog een drietal jaren van minutieus onderzoek en test-fases.

In onderstaand filmpje krijg je de technische info:

EUV

De uitdagingen voor Extreem Ultraviolet licht (EUV) waren zo mogelijk nog groter. Sinds begin 2001 werkten ingenieurs aan een manier om met een alternatieve lichtbron te werken. Op die manier slaagden ze erin om met EUV de schaalgrootte te verleggen van 32 nanometer tot minder dan 20 nanometer. Daartoe moest de hele machine herbekeken worden.

Omdat EUV “licht” geaboserbeerd wordt door ASMLs traditionele lenzen, wordt het licht voortaan gespiegeld. Hiervoor werkte het bedrijf met Zeiss aan gladgepolijste lenzen, waarbij de grootste ongelijkheid minder dan een nanometer mocht zijn.

Ook gewone lucht was een stoorzender. Daarom werd de nieuwe machine helemaal luchtledig gemaakt, wat een grote invloed heeft op alle onderdelen. Spreker Jos maakte zich sterk dat deze luchtledige toestand te vergelijken is met wat in de ruimtevaart onderzocht wordt.

Geslaagd event

De 25 deelnemers kregen nadien een glaasje aangeboden en hadden de kans om nog even na te praten. De eerste reacties waren unaniem positief. Enkele VIK leden die zelf bij ASML werken, gaven aan dat ook zij nog steeds onder de indruk waren van de schaalgrootte van hun werkgever.

Meewerken aan kleinere chips?

Dat kan via www.asml.com/careers